上海市某半导基带芯片造成厂，晶圆精加工步骤中带来含硅、氟的个性化化工废水治理 ，设计的治理 人数1200吨/日。化工废水治理 化学成分麻烦，含带奈米级硅科粒及盐酸，普通治理 最简单的方法没办法标准。 化工废水含量及來源 通常废弃物物 ：氢氧化铁硅（100-500nm孔径）、氟正离子（200-300mg/L）、异丙醇 源于程序 ：晶圆刻蚀电镀焦化废水（45%）、CMP物理化学机增加光泽电镀焦化废水（40%）、机器设备擦拭水（15%） 清理新工艺工作流程 企业创新使用"化学上的奠定+持种膜离心分离"系统自驾线路： 钙盐滤渣 ：加药系统氯化钙清除氟阳离子（提取CaF2沉淀自己） 水解酸化池发应 ：组合斜管沉淀池剂确保电解质溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm孔经膜挪作他用微细顆粒 反融入程序 ：脱盐率>98%，回收分类处理率75% 挥发析出 ：浓水段做到氟化物零排出 然后结果 氟化物有机废气浓度：<8mg/L（高出发展中国家二级规定10mg/L） 硅的含量：<5mg/L 水资源保护量造纸废水处理率：70%用到冷却水塔保湿 危废处理减轻：汽化食物残渣量较传统性的工艺减小60%