某半导体芯片营造企业公司因晶圆进行维护清洁繁琐流程生产含氨化工废水，容量200吨/天。化工废水内除氟化物外还具有刺激性氟化物和进样器高价属，治理难度很大大。位置污染物基准符合要求氟化物＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 生活污水物质及从何而来 晶圆的清洗生活污水（包括收入）：含氧化还原电位200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工作废水处理：含轻微铜、镍等高价属，pH值波动性大 CMP粉磨生活污水：含硅小粒及高锰酸盐指数 操作方法具体流程 通过"化学物质积淀+膜分开+折点氯化"整合加工制作工艺 ： 预操作 ：污泥脱水CaCl2除氟，调控pH在7.5-8. 反渗透装置系统化 ：清除0.01μm上面顆粒物 反加入精提 ：将氯离子精浓至1000mg/L上 折点氯化 ：正确把握氯污泥脱水量，将化学需氧量转换成为氦气 阳离子互转 ：保证血本属符合标准 终极体验 氟化物动态平衡＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属成分压低监测限 水中水回用率达75% 工业废水引起量抑制40%