項目时代背景 重庆某半导体行业厂生孩子阶段中一起引起高硅工业工业废水处理方法（SiO₂ 500-800mg/L）和含氟工业工业废水处理方法（F⁻ 200-300mg/L）。两类工业工业废水处理方法混和后容易建成氟硅酸固体，常用化学凝固法其特性很难平稳及格。产品追求导入弄掉硅和氟（排放物准则：SiO₂≤30mg/L，F⁻≤10mg/L）。 电镀废水化学物质及起源 注意组分 ：硅酸氢钠（NaHSiO₃）、氟化铵（NH₄F）、异丙醇 来源于 ：晶圆刻蚀焦化废液、CMP研磨抛光焦化废液、装备清洗水 净化处理工艺技术步骤流程 一体化石雕文化沉淀第一阶段 ： 两极表现池 ： 最级污泥脱水Ca(OH)₂生成二维码CaF₂和CaSiO₃石雕文化沉淀； 2、级污泥脱水PAC（整合氯化铝）精炼二沉池。 固液剥离步骤 ： 反渗透膜体系 ：用到0.02μm钻孔大小膜插件挪用固体硅和微细沉定物。 纵深脱氟步骤 ： 活性酶类硫化铝粘附塔 ：残渣氟亚铁离子吸咐消除。 终结效用 出水出水SiO₂≤25mg/L，F⁻≤8mg/L，远远远超过祖国基准。 反渗透装置系統通量稳定性在15LMH，普通机械清理周期公式延缓至60天。 厌氧颗粒污泥经压滤后含水量率＜65%，可按普通危险废物外理。